2025-06-27 12:01:39
作为参考，目前的TWINSCANEXE:5000光刻系统采用HighNA(0.55NA)光学系统，分辨率为8nm。更高的分辨率意味着先进制程企业可减少曝光次数、提升光刻图案质量。JosBenschop提到，ASML尚未设定HyperNA光刻机推出的目标日期，不过项目开发目标是将NA（亚汇网注：数值孔径）进一步提升到0.7乃至更高；5nm的分辨率意味着HyperNA系统能满足2035年乃至更后阶段的产业需求。对于近来才启动部署的HighNA图案化设备，这位ASML高管称这些机台的广泛使用要晚一些，这是因为行业需要测试、验证并建立相应的生态系统；0.55NA光刻机预计可满足本十年内乃至到三十年代初的行业需求。广告声明：文内含有的对外跳转链接（包括不限于超链接、二维码、口令等形式），用于传递更多信息，节省甄选时间，结果仅供参考，亚汇网所有文章均包含本声明。
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