阿斯麦High-NA EUV光刻机取得突破 成功印刷10纳米线宽图案
文 / 风致
2024-04-18 10:36:16
来源:亚汇网
【阿斯麦High-NA EUV光刻机取得突破 成功印刷10纳米线宽图案】荷兰阿斯麦 (ASML) 公司宣布，其首台采用0.55数值孔径 (NA) 投影光学系统的高数值孔径 (High-NA) 极紫外 (EUV) 光刻机已经成功印刷出首批图案，这标志着ASML公司以及整个高数值孔径EUV光刻技术领域的一项重大里程碑。
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