2025-05-16 12:39:02
消息称三星正在评估i-line（365nm）和KrF（248nm）光掩模的潜在供应商，其中包括日本ToppanHoldings旗下的TekscendPhotomask和美国Photronics旗下的PKL，评审工作预计将在今年第三季度完成。三星电子为防止技术泄露，一直坚持自产所有光掩模，而内部设备的老化以及低端光掩模技术风险的降低，促使三星公司重新审视外包策略。亚汇网注：光掩模是半导体制造中不可或缺的部件，用于将电路图案转移到硅片上，其中EUV（13.5nm）等短波长技术可实现更高分辨率，适用于尖端工艺，而i-line和KrF则主要支持成熟工艺节点。广告声明：文内含有的对外跳转链接（包括不限于超链接、二维码、口令等形式），用于传递更多信息，节省甄选时间，结果仅供参考，亚汇网所有文章均包含本声明。
您正在访问亚汇网香港分站，本站所提供的内容均遵守中华人民共和国香港特别行政区法律法规。
