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ASML CEO:预计 High NA EUV 光刻机 2027~2028 年用于先进制程大规模量产

文 / 小亚 2025-12-15 12:01:42 来源:亚汇网

感谢亚汇网网友补药吖、目前在导入新一代图案化技术上最积极的是英特尔代工,其支持HighNAEUV的Intel14A节点将在2027年正式推出。Fouquet表示,HighNAEUV光刻机目前正由英特尔等客户测试,结果显示新设备的成像和分辨率表现良好,该企业2026年的任务之一是与客户合作将设备的停机时间最小化。Fouquet还提到,ASML对未来10~15年的大致技术路线已有一定的概念。该企业已启动下一代HyperNAEUV的研究,为本世纪30年代的投运打下基础。广告声明:文内含有的对外跳转链接(包括不限于超链接、二维码、口令等形式),用于传递更多信息,节省甄选时间,结果仅供参考,亚汇网所有文章均包含本声明。

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